재료의 조성 측정(測定) 방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS…
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작성일 21-03-19 06:34본문
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(6) 시료 준비
5. AES(Auger Electron Spectroscopy)
(1) ICP-MS란?
(3) XRF의 종류
1. TG 곡선의 의미
8. ICP-MS (Inductively Coupled Plasma)
순서
3. 分析에 이용하는 X-ray는?
(1) 기본원리
1. XRD (X-ray Diffraction)
(4) 충전효율(charging effect)
(3) EDS를 이용한 원소의 정량分析
2. TGA (ThermoGravimetric Analysis)
재료의 조성 측정(measurement)방법
(3) 감도 및 검출 한계
레포트 > 공학,기술계열
재료의 조성 측정(測定) 방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS)
(5) 정량 分析 (Quantitative analysis)
조성측정방법 , XRD , TGA , DTA , FTIR , AES , EDS , XRF , ICP-MS , AAS
(4) 시차온도곡선의 이해
(3) AES分析의 종류
(4) 화학적 이동 (Chemical shift)
(5) 分析방법
재료의 조성 측정(測定) 방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS)
설명
(1) 기본원리
(4) 적용범위
2). Goniometer
(4) 分析방법
3. ICDD card
(1) EDS 개요
(2) AAS의 구성
여러가지 측정(測定) 방법에 대한 원리, 實驗(실험)방법, 적용범위
(1)X-ray 기본원리
재료의 조성 측정방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS) 여러가지 측정 방법에 대한 원리, 실험방법, 적용범위 재료의 조성 측정방법
4)Filter
(1) 기본원리
(2) 전자저울 종류
1. X-선 회절의 조건은?
(5) 주요 적용 범위
3. 분해reaction(반응)속도 항수의 계산
3. DTA (Differential Temperature Analyzer)
(3) 광전자 스펙트럼 (Photoelectron spectrum)
(4)XRD 실험방법
(3) 기존 장비와의 비교
2. 열안정성
(2) 구성장치
1. X-ray란?
9. AAS (atomic absorption spectroscopy)
4. 색인서(Index book)
4. FTIR (Fourier transform infrared spectroscopy)
(4) FTIR에서의 Sampling 기법
3) 계수기록장치(Electronic Circuit Panel)
Reference
(2) FTIR의 특성
7. XRF (X-Ray Flourescence Spectrometry)
재료의 조성 측정(測定) 방법
(4) 측정(measurement) 방법
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2. Direction of Diffracted Beam
1. 조성의 分析
(2) 결과 分析
(2) XRF의 이용
(2) AES/SAM의 구조
(2) ESCA 장치의 주요 구조
(1) 장치 구성
(1) X-선 형광이란
1) X-ray 발생장치(X-ray Generator)
(2) EDS를 이용한 정成分석
(3) TG의 가중기법
4. 전형적인 TG-curve
1. XRD 구성
(3) FTIR의 구성
(3) DTA peak 해석
(2)Bragg’s Law
2. X선에 의한 동정법의 한계
1. 분말X선회절법에 의한 동정법의 특징
2. X-ray의 발생
(1) 장치 구성
3. 미분곡선을 이용하는 이점
(3)XRD 시스템
(1) AAS원리
2. TG 미분곡선
(5) DTA의 특징
(7) advantage(장점) 과 단점
4. 응용예
10. XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy)
6. EDS(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy)
다.